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장비 및 시설 기본정보
감광제 제거장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 피에스케이(PSK) |
| 모델명 | DAS2000 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2009-01-20 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 포항공과대학교 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 위의 감광제 제거장치(PR Descum)의 특징은 다음과 같습니다. 반도체의 패턴(pattern)을 형성한 후 잔류 및 기본적인 감광제를 제거하는 역할을 합니다. 그 외 Microwave Plasma 방식의 wafer damage 최소화 역할위의 감광제 제거장치(PR Descum)의 구성 및 성능은 다음과 같습니다. Microwave Plasma 방식의 wafer damage 최소화 200mm Ashing System위의 감광제 제거장치(PR Descum)의 활용분야는 다음과 같습니다. ▶Pattern Develop 후 잔류 Resist 제거 ▶Etching 공정 후 Masking Layer PR 제거 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/200902/.thumb/20090224144720.jpg |
| 장비위치주소 | 경상북도 포항시 남구 청암로 77 (지곡동) 포항공과대학교 나노기술집적센터 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2009-02-071154 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0011769 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |