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얼라이너 시스템

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보유기관명	가천대학교 글로벌캠퍼스
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드
표준분류명
시설장비 설명	특징 전자부품 제작시 사진식각공정에 의한 마이크로 패터닝을 위한 장비로서 포토레지 스트를 도포 후 마스크를 정렬하 여 노광하는 장치이다. 마스크 하부의 포토레지스 트에 대한 노광 유무의 차에의해 현상액에 대한 용해도 차이가 생겨 이를 이용하면 수 마이크론의 패턴을 형성할 수 있다.구성 및 성능 - Lithography system up to 6" - Wafer thickness: 0.1~10mm - Alignment accuracy +/- 0.5um top sidenull
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201309/.thumb/20130925132154501.jpg
장비위치주소	경기 성남시 수정구 복정동 산 65-2 가천대학교 글로벌캠퍼스 새롬관 1층 114-2 크린룸
NFEC 등록번호	NFEC-2007-12-050185
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0011616
첨부파일