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장비
장비 및 시설 기본정보
감광제도포 및 현상장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | TEL |
| 모델명 | MARK 7 (TEL) |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2010-05-31 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 나노종합기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | 시험 |
| 시설장비 설명 | - coating ->노광-> develop을 반복하여 패턴을 쌓아 가는 것이 Photo Process 주요임 - 웨이퍼 표면의 감광액 도포 처리 장치 및 웨이퍼 상의 패턴 형성을 위한 현상 처리 장치로 웨이퍼 반송 로솝과 유미포미티한 베이킹을 실시하기 때문에 균일하게 PR을 도포한다. |
| 장비이미지코드 | https://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201903/2019030717532501.png |
| 장비위치주소 | 나노종합기술원 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2019-03-254752 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | https://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201905099100 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |