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EHD 패터닝 장비

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보유기관명	한국기계연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C519
표준분류명	생산
시설장비 설명	액상태의 양자점을 폴리머 실리콘 유리 등의 다양한 기판에 코팅 및 패터닝 하기 위한 시스템이다. 본 연구실에서 이용되고 있는 나노입자 소재는 증착방식이 아니라 용액공정으로 합성되므로 용액기반의 나노소재로 잉크의 패터닝 방식이 필요하다. 이를 위하여 5㎛ 이하의 패터닝이 가능하고 나노소재의 용액 농도에 관계없이 대면적 패터닝 할 수 있는 EHD (Electrohydro Dynamic) 방식의 나노패터닝 장비로 사용 할 수 있다. 특히 저온공정의 전극 생성 및 반도체 물질의 패터닝을 폴리머 실리콘 유리기판 등에 패터닝 할 때 사용할 수 있다. 고점도의 잉크를 사용할 수 있으며 미세한 노즐을 이용한 패터닝이 가능하여 마이크로 나노관련 전극의 생성에 사용할 수 있다.
장비이미지코드	https://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20161017141744_20120625000000148419 NFEC-2012-06-165584.jpg
장비위치주소	한국기계연구원 메카트로닉스연구동
NFEC 등록번호	NFEC-2012-06-165584
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	https://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201904198943
첨부파일