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장비 및 시설 기본정보
플라즈마화학기상증착장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 아텍시스템 |
| 모델명 | Graphene Cluster Lab 200 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2011-07-29 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 재료연구소 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C507 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | -본 장비는 알루미나가 코팅되어 있는 휠이 고속으로 회전하면서 고밀도 플라즈마를 발생시켜 Si 고속 증착을 만들어내는 장비. 공정압력 1~760 Torr에서 arc 및 Steamer가 발생하지 않고 Glow Discharge가 발생됨. -1기의 프로세스 챔버와 Load & Lock (L&L)으로 구성된 챔버부와 제어부 (Control Panel)로 구성되어 있음. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201307/20130717135338720.JPG |
| 장비위치주소 | 재료연구소 연구3동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-07-181244 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-202006045286 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |