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장비
장비 및 시설 기본정보
폴리머 식각장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Pink |
| 모델명 | V15-G |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2009-05-04 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 울산과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | - 낮은 전압사용하여 O2 및 Ar Gas의 챔버내에 플라즈마를 발생하여 Si deep etching 및 wet-etching등 여러 제작 공정 이후 Wafer의 잔류 PR 제거 및 유기물등을 removal-cleaning하는 장치 이다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201209/20120927131145.jpg |
| 장비위치주소 | 울산과학기술대학교 자연과학관 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2012-09-171186 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201812172477 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |