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장비 및 시설 기본정보
듀얼집속이온빔장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Hitachi |
| 모델명 | NB 5000 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2011-03-30 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 대구경북과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | A200 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | Dual Beam Focused Ion Beam system - 집속 이온빔의 식각 특성을 활용하여 미세 영역의 단면을 가공 후 전계 방사형 전자현미경으로 단면 이미지 관찰 성분분석 등의 다양한 분석 작업을 가능하게 해주는 장비 - 고난위도의 기술을 요하는 투과전자현미경용 시편가공이 가능함. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/202002/20200210142545594.jpg |
| 장비위치주소 | 대구경북과학기술원 중앙기기센터 205 소자클린룸 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-02-174968 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201812171081 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |