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장비 및 시설 기본정보
Inductive Coupled Plasma Etcher (AOE Etcher)
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Surface Technology Systems(STS |
| 모델명 | plasma etcher |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2003-12-03 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | 기타 |
| 시설장비 설명 | 특징 반도체 공정용 금속막과 산화막을 균일하게 식각 가능하며 MEMS공정을 수행하는데 적합하다. 또한 정밀한 제어가 가능하여 초소형 미세 구조물의 제작에 널리 활용될 수 있다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20160922132255_200702071937 NFEC-2003-12-044199.jpg |
| 장비위치주소 | 한국과학기술연구원 청정연구동(L6) |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2003-12-044199 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201903127086 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |