- HOME
- 기술정보
- 장비
장비
장비 및 시설 기본정보
제논 릴리즈 식각시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Memsstar |
| 모델명 | Lab Xe |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2013-01-29 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 대구경북과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | XeF2 가스를 이용하여 실리콘을 등방 식각하는 장비임. 실리콘 이외에 산화막/질화막/금속/폴리머는 손상되지 않음 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20160919181904_20130609000000164240 NFEC-2013-06-179819.jpg |
| 장비위치주소 | 대구경북과학기술원 중앙기기센터 205 소자클린룸 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-06-179819 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201812171125 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |