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장비
장비 및 시설 기본정보
박막증착시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | (주)티티엘 |
| 모델명 | FabStar |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-02-09 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 대구경북과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | 각종 소자(센서 FET 등) 제작 시 CVD(Chemical vapor Deposition화학적기상증착)방법을 이용하여 SiO2 & Si3N4 증착 본원에서는 FET 소자 제작시 절연층 Si3N4층 박막 제조로 활용할 예정임. 또한 기판이 시편조각뿐만 아니라 6인치 웨이퍼까지 사용가능하도록 설계됨. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201207/20120731152353.jpg |
| 장비위치주소 | 대구경북과학기술원 중앙기기센터 205 소자클린룸 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2012-07-168050 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201812171091 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |