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장비
장비 및 시설 기본정보
자기유도결합 플라즈마 산화막 건식 식각기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | (주)티티엘 |
| 모델명 | FabStar |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2016-12-31 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 울산과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | 1) ICP를 이용한 공정 장비인 산화막/금속막 건식 식각 장치 (Dielectric/Metal ICP Etcher)는 각각 프로세스 챔버, 로드락 챔버, 가스 전달 시스템, 자동 압력조절기, RF 파워 전달장치, 진공펌프로 구성되어있다. 2) 산화막 건식 식각 장치는 플라즈마와 부식성 화학물질을 이용하여 SiO2, Si3N4와 같은 재료를 식각하기 위해 설계된 장치이다 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201701/201701111619451.png |
| 장비위치주소 | 108동 제3공학관 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2017-01-235691 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-202006173224 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |