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장비 및 시설 기본정보
진공증착시스템 (열증착설비)
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 에스엔텍 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2013-06-10 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 재료연구소 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C503 |
| 표준분류명 | 생산 |
| 시설장비 설명 | Thermal Source의 수량은 2 set이며 증착 물질 선택 방법: Power Select 스위치의 출력 채널 설정 및 Thickness Monitor의 Next Film Function을 활용하여 증착 물질 선택. 2개의 Crystal Sensor 를 사용해 In-situ 두께 Monitoring 기능으로 Process end Point를 자동 인식. Film 선택>증착공정>End Stop 신호>Shutter 자동 닫힘>공정 종료. 나노미터수준의 코팅 두께와 증착속도를 정밀제어할 수 있는 콘트롤 기능을 가짐. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201307/20130715142518439.JPG |
| 장비위치주소 | 재료연구소 연구3동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-09-182978 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-202006045287 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |