| 시설장비 설명 |
1. 장비명: 전계 방사형 주사전자현미경(Field Emission Scanning Electron Microscope) 2. 장비원리 및 특성 - 전계 방사형 주사전자현미경은 전자총에서 방출된 전자를 가속시켜 시료 표면에 주사하여 시료와 상호작용으로 발생되는 전자 신호들을 수집하여 모니터의 밝기로 변조시켜 고해상도의 이미지를 얻고 여러 가지 신호들을 다양한 검출기들 (BSD, EDS, EBSD)로 검출함으로 시료의 표면 형태, 구조, 조성적 특성을 밝히는 장비이다. - 전자 컬럼을 이용하여 컬럼과 시편 사이에 장착해야만 했던 검출기 등을 컬럼 내부로 넣는 In-lens형 검출기로 장착하여 높은 해상도를 관찰할 수 있는 충분한 짧은 작업 거리를 확보할 수 있으며 짧은 작업 거리 확보로 인하여 강한 에너지를 가진 전자에 약한 시편들을 약한 에너지의 전자로 관찰할 수 있어 최상의 영상을 얻을 수 있다. - 후방산란전자검출기가 컬럼 내부에 장착되어 잇어 Z CONTRAST에 의한 차이뿐만 아니라 전자의 결합구조, 에너지 상태에 차이를 동일 원소라도 관찰할 수 있는 시편의 원소조성에 따른 명암대비와 나노 파티클의 분석에 유리다 |
