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장비
장비 및 시설 기본정보
반응성 이온 식각기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Oxford Instruments |
| 모델명 | PlasmalabSystem133 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2009-12-15 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국생산기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | 기타 |
| 시설장비 설명 | ㅇ 원리 및 특징 - Material : Si, SiO2 , SiNx - Etch depth : 5um To 500um (Through the wafer) - Etch Mask : Photo resist , Dielectric , Metals - Wafer Size : 4(100mm) , 6(200mm) , 8(300mm) , 8 X 8 square - Wafer Type : Single, Bonded |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20161006110631_20100105000000051957 NFEC-2010-01-077760.jpg |
| 장비위치주소 | 한국생산기술연구원 호남권 지역본부 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2010-01-077760 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201903127130 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |