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장비
장비 및 시설 기본정보
반도체 산화막 증착로 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | ㈜피앤테크 |
| 모델명 | 개발장비 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2015-10-08 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국원자력연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C523 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | 반도체 웨이퍼의 산화막을 증착하는 열처리로 장비임. - 수증기를 산화막의 소스로 사용하는 하이드로 써멀방식의 산화막 증착로임 - 반도체 공정시 웨이퍼상에 균일하게 산화막을 증착 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201510/20151016135314172.jpg |
| 장비위치주소 | 첨단방사선연구소 방사선기기연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-10-205539 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0058881 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |