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장비
장비 및 시설 기본정보
반도체센서 전극 패턴 포토마스크 제작장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Heidelberg Instruments |
| 모델명 | dwl 66 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2015-06-29 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국원자력연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | 생산 |
| 시설장비 설명 | 본 장비는 반도체 방사선 검출기 제작을 위한 리소그래피 장비임 실리콘 계열, 화합물 반도체 등 다양한 방사선 검출기의 패턴 형성을 위해 마스크가 필요한데, 본 장비를 통해서 공 마스크(blank mask)를 사용자가 원하는 패턴으로 제작이 가능한 장비임. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201507/20150706161214928.JPG |
| 장비위치주소 | 한국원자력연구원 방사선기기팹센터 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-07-203565 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0057508 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |