장비 | 기업공감원스톱서비스

장비

화학기상증착 장비

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명	한국화학연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C509
표준분류명	시험
시설장비 설명	□ 원리 및 특징 - Pulsed source Chemical vapor deposition은 반도체 제조 공정 중 화학적으로 달라붙는 단원자층의 현상을 이용한 나노 박막 증착 기술. 웨이퍼 표면에서 분자의 흡착과 치환을 번갈아 진행함으로 원자층 두께의 초미세 층간(layer-by-layer) 증착이 가능하고, 산화물과 금속 박막을 최대한 얇게 쌓을 수 있으며, 가스의 화학반응으로 형성된 입자들을 웨이퍼 표면에 증착시키는 일반 화학 기상 증착(CVD)보다 낮은 온도(500도 이하)에서 막질을 형성할 수 있는 장점이 있음.
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20161018141856_20110617000000110094 NFEC-2011-06-145802.jpg
장비위치주소	한국화학연구원 1연구동
NFEC 등록번호	NFEC-2011-06-145802
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0057822
첨부파일