- HOME
- 기술정보
- 장비
장비
장비 및 시설 기본정보
고밀도 플라즈마 식각장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 에이피티씨 |
| 모델명 | SELEX 200 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2005-12-29 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국전자통신연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | 식각 방식은 ACP(adaptive coupled plasma) 방식이고, Plasma power는 최대 2 kW를 사용 할 수 있음. 또한 고선택비와 엄격한 CD 균일도 등을 특징으로 함. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/200812/20081216115741.JPG |
| 장비위치주소 | 한국전자통신연구원 4동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2008-12-071465 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-ETRI-00105 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |