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장비 및 시설 기본정보
Bulk형 반도체용 스핀린스 드라이어 제작
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 재성엔지니어링 |
| 모델명 | 개발장비 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2015-07-08 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국원자력연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C500 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | 벌크형 반도체 제작 시 최종 세척을 위한 장비로 고온의 챔버 내 순수를 분사시키면서 고속 회전을 하여 잔존 하는 불순물을 세척할 수 있다. 총 5단계로 RPM을 조절할 수 있으며 각 단계에서 챔버의 온도도 조절할 수 있 다. Bulk형 반도체에 최적화 하였으며, wafer형 반도체도 사용이 가능하다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20161013111314_20150709000000192568 NFEC-2015-07-203654.jpg |
| 장비위치주소 | 첨단방사선연구소 방사선기기연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-07-203654 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0057551 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |