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장비
장비 및 시설 기본정보
열처리 장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | (주)울텍 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-07-12 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국전자통신연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C506 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | 급속히 시편을 가열하는 장치이다. 박막시편을 빠르게 가열하는 장치로 반도체 공정에 사용된다. 실리콘과 같은 적외선을 흡수할 수 있는 시편에 적용이 가능하며 적외선을 흡수하지 못할 경우 매질을 이용한다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201411/201411241715547.jpg |
| 장비위치주소 | 한국전자통신연구원 2동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2014-11-193635 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0046342 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |