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장비 및 시설 기본정보
TaC 원료공급 및 증착장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 아전가열산업 |
| 모델명 | 개발장비 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2015-02-01 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국원자력연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C508 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | 본 장비는 고순도의 TaC를 증착시키기 위한 저압화학기상증착 장치이며, Ta의 원료기체를 균일하게 공급할 수 있는 특징을 가짐. 2개 이하의 원료 물질을 각각 공급하여 고온에서 화학반응을 통해 증착이 이루어짐. 스크류 형태의 피더를 가지며, 분말형태의 원료를 기화시켜 증착이 이루어짐. 최대 증착 온도는 1600oC 이며, 최소 증착압력은 약 5 torr 임. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201503/20150311141420810.JPG |
| 장비위치주소 | 한국원자력연구원 제3연구동 190 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-03-200068 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0050667 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |