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장비
장비 및 시설 기본정보
화합물반도체 식각장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | (주)기가레인 |
| 모델명 | NeoGEN-MAXIS 200 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2017-04-03 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 대구경북과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C500 |
| 표준분류명 | 생산 |
| 시설장비 설명 | - 본 장비는 Waveguides based, Gratings, Micro-lenses, Photonic crystals, Detectors, VCSELs, LEDs, Solar cells, HBTs, HEMTs 등 화합물반도체 기반 소자 등을 제작할 때 기본적으로 갖추어야 할 기본 공정장비임. - 고온(~250℃)이 필요한 소자식각 공정에 사용 - Vacuum cassette load lock chamber 및 ICP etching chamber의 two chamber system 임. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201704/2017041785812277.png |
| 장비위치주소 | 대구경북과학기술원 중앙기기FAB지원센터 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2017-04-237226 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201712191555 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |