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장비
장비 및 시설 기본정보
유도 결합 플라즈마 방식 반응성 이온 식각장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Samco |
| 모델명 | RIE-200ip |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2017-06-29 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 기초과학연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | 시험 |
| 시설장비 설명 | 자기양자센서 및 초전도 양자간섭장치를 제작하기 위해서는 1~5마이크로의 초전도 금속선을 수십회 감긴 형태로 식각하여야 한다. 이 장비는 초전도 금속을 마이크로 단위로 식각이 가능하며 우수한 형상비를 갖는 장비이다. RF 파워 조절 기능, 전 공정 수동,자동 모드 , multi-step 공정 기능, 식각 공정 파라미터 저장 기능 등이 가능하다. 또한 정전척 사용 장비로 웨이퍼 단위 공정에 균일한 식각이 가능하다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201707/2017072416535785.jpg |
| 장비위치주소 | 연구센터 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2017-07-239013 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201712202207 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |