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장비
장비 및 시설 기본정보
고속 열처리 합성 진공 장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 코리아바큠테크㈜ |
| 모델명 | KVR-4000 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-08-31 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C601 |
| 표준분류명 | 생산 |
| 시설장비 설명 | RTA(Rapid Thermal Annealing) vacuum chamber는 Wafer의 온도를 올려주기 위해서 Inductor coil을 이용하는 것이 아니라 직접 Wafer에 빛을 쪼여 radiation heat transfer 를 이용하여 Wafer의 온도를올려주는 장비입니다. 외벽 및 주변을 차가운 상태를 유지시키고, ambient control이 쉽고, thermal mass가 작아 열처리 시간을 대폭 줄일 수 있으며 열처리 시간이 줄게 됨에 따라 공정의 제어가 훨씬 수월하게 됩니다. 따라서 짧은 시간에 높은 온도를 열처리 함으로써 미세한 소자를 제작하는데 있어 완벽하게 공정을 제어할 수 있습니다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201305/20130509115157445.JPG |
| 장비위치주소 | 한국과학기술연구원 산학연협력연구동(L7) |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-05-178752 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0054806 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |