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장비
장비 및 시설 기본정보
고압 산소 분위기 열처리 로
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 아전가열산업 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2010-10-26 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국전기연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C601 |
| 표준분류명 | 시험 |
| 시설장비 설명 | 본 장비는 한국전기연구원 재료응용연구본부에서 세라믹 분말 하소와 성형체 소결 등의 열처리에 사용되는 고온고압용 열처리 로이며, 산소분위기 하에서 사용되는 장비. 특징 고온 열처리 챔버내에서 산소부스터를 이용한 고압산소 분위기제어 및 발열체를 이용한 온도제어 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201109/20110908141052.JPG |
| 장비위치주소 | 한국전기연구원 제3연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2010-12-086041 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0053431 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |