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장비
장비 및 시설 기본정보
표면플라즈마시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 올포시스템 |
| 모델명 | AFS-IR6T |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2014-12-29 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | - 청정룸에서 샘플 식각 처리 - 웨이퍼, CNT, Graphene, 등 식각 처리 - 고밀도 플라즈마를 사용하여 미세한 패터닝의 소자를 식각 처리 - 향후 새로운 소비시장으로 등장할 Solar Cell, 신소재, 등의 요소 제품들의 제작을 위해서는 재현성, 정밀성 및 균일한 식각 기술이 핵심이므로, 전자소자 또는 디스플레이를 초저가로 대량 생산하기 위한 연구가 적용 가능 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201504/2015042192815884.jpg |
| 장비위치주소 | 한국과학기술연구원 전북분원 연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-04-201703 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0055562 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |