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장비 및 시설 기본정보
플라즈마 코팅 장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 테스(TES) |
| 모델명 | TESLAR200 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-06-26 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국에너지기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C209 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 1.SiNx Al2O3의 막을 형성하기 위한 플라즈마 형태로 분해시켜 막을 형성하기 위한 박막증착 시스템이다. 2.이 장치는 화학기상 증착장치로서 고주파화학증착방식으로 실리콘 태양전지개발 및 응용분야에서 사용된다. 3.플라즈마 화학기상 증착(Plasma enhanced chemical vapor deposition) 방식을 이용한 SiNx Chamber와 Al2O3 Chamber를 별도 구성하여 독립제어 되도록 설계하였다. 4. Single wafer Loading을 위한 TM Chamber와 Load lock Chamber가 독립적으로 구성되어있다. 5. 결정질 실리콘 태양전지 6인치 (156x156 mm2)용으로 설계되었으며 한 장씩 공정이 진행된다. 6. 결정질 실리콘 태양전지 제조 평가와 연구 목적으로 사용된다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201209/20120905150956.jpg |
| 장비위치주소 | 한국에너지기술연구원 고층고실험동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2012-09-170041 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-KIER-00021 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |