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장비
장비 및 시설 기본정보
급속 고온가열 및 냉각 장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 제이하라 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2015-08-27 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국생산기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C600 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 본장비의 특징으로 적용기판은 156 x 156 mm 이상, 두께 : 200um이상의 Solar cell용 c-Si Wafer, Glass등 기판이 사용가능하며, 열처리대상dms c-Si Wafer, 박막, metal이고, Temp. Control Range는 300 ~ 1000 ˚C, Ramp-up Rate : 10 ~ 80 ˚C/sec, RTemp. Repeatability는 ≤2 ˚C, MTBF : > 3,000 hrs, Standard 3 Gas Lines : N2, O2, rotary pump 스피드 220 l/min인 기능을 가지고 있음. 장치 구성으로는 CHAMBER MODULE, WAFER TRAY MODULE, GAS BOX MODULE, ELECTRICAL BOX MODULE로 구성되어있음. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201509/20150903118522.PNG |
| 장비위치주소 | 한국교통대학교 공동실험관 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-09-204699 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-kitech-00841 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |