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장비
장비 및 시설 기본정보
저온 PECVD 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 티이에스 |
| 모델명 | TESLA200 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-01-02 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국전자통신연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C507 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 반도체 및 디스플레이 백플레인 소자 제작용 PECVD 시스템으로써 SiO2 박막 및 SiNx 박막을 증착하는 것이 가능함. 사용 가능 Gas는 SiH4 NH3 N2O H2 N2등이 있음. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201307/201307031321018.JPG |
| 장비위치주소 | 한국전자통신연구원 4동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-07-180675 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-ETRI-00050 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |