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원자층 증착 장비

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보유기관명	울산과학기술원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C509
표준분류명
시설장비 설명	원자층 증착(atomic layer deposition ALD) 설비는 각각의 반응 기체들을 순차적인 펄스 형태로 주입하여 기상반응을 억제하고 기판표면에서 자기제한적인 흡착 과정(self-limited adsorption)을 통한 표면 반응에 의해 박막을 형성하는 설비이다. 전체 증착 되는 막의 두께는 증착 사이클의 수를 통해 조절되기 때문에 원자 층 단위에서의 두께 조절이 용이하다. 원자층 증착기는 기상 반응을 억제하고 기판 표면에서만 원자층 박막을 만들 수 있는 장치로 그 응용 분야는 반도체 박막을 요구하는 모든 분야에 적용이 가능하다. 특히 step coverage가 매우 높은 장점으로 인하여 반도체 공정에서 특히 많이 사용이 되고 있는 장비이다. 또한 본 장비는 2기의 프로세스(산화막/금속) 챔버와 1기의 기판이송/로드락 챔버로 구성되어 진공이 유지된 상태에서 산화막/금속 다중층 증착이 가능하다.
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201404/20140417152941328.jpg
장비위치주소	울산과학기술대학교 자연과학관
NFEC 등록번호	NFEC-2014-04-186855
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0042564
첨부파일