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장비
장비 및 시설 기본정보
고전력 전자파 챔버 및 안테나류
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 에스와이코퍼레이션 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2017-05-31 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국생산기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | H100 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | ㅇ 전기․전자제품 및 그 부속품들(이하 EUT)로부터 발생되는 전자파를 측정하거나, 외부 불특정 전자파로 부터 EUT가 어느 정도의 전자파 내성을 갖고 있는지를 정밀 하게 측정하기 위하여 CISPR, ANSI, IEC/ISO, ETSI/EN 등 EMC 관련 국제표준기구에서는 Chamber에서의 시험/측정법 및 각각의 시험장소에 대한 검증 절차를 규정하고 있음. ㅇ Chamber는 외부에서 유입되는 불요 전자파의 영향을 받지 않는 환경을 인위적으로 만들어 EUT 자체에서 발생된 전자파 총량을 정밀하게 측정, 인체에 대한 유해성 여부를 판단하는데 사용되며 EUT의 전자파 내성을 측정하기 위하여 사용되는 전자파 발생장치로 부터 발생된 특정세기 전자파가 외부의 전자파와 합산되어 EUT에 도달함으로써, EUT의 내성을 정확하게 측정하지 못하게 방해하여 측정 오차를 야기 시키는 것을 방지하기 위해서 사용됨. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201706/2017061991237241.jpg |
| 장비위치주소 | 한국생산기술연구원 항공전자시스템기술센터 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2017-06-238591 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201711160863 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |