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장비
장비 및 시설 기본정보
이온 밀링 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Gatan |
| 모델명 | PECS II |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2017-05-10 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국생산기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | B0 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | - 이온빔에 의한 Artifact 발생억제를 위한 극저온(-180℃) 및 저에너지(min. 0.1eV) - 다양한 부위의 미세구조 해석을 위한 대면적 적용 (min. 5 mm) - 부위별 고른 연마를 위한 시편의 rotation 및 이온건의 modulation 및 각도 조절 - 특정부위 미세구조 해석을 위한 실시간 monitering 기능 - 제작시편의 오염방지를 위한 고진공 (작동시 10-5 torr 이상) - 동시에 정밀한 다층코팅(min. 2 target 장착) 기능 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201706/2017060510146357.jpg |
| 장비위치주소 | PP동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2017-06-238088 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201711160872 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |