| 시설장비 설명 |
1) 진공 열처리로 1기 - 진공조건 하에서 부품의 열산화 밀 탈탄을 방지하며, 열처리 수행. 액체질소를 이용한 냉각을 통해 프로그램화 된 열처리 공정을 연속적으로 수행하는 장치. 2) 가스 열처리로 1기 - 비활성기체의 대류조건 하에서 열처리를 수행. 표면의 열산화 및 탈탄 등을 방지하며 고온의 등온조건하에서 열처리를 수행하는 장치. 3) 중온용 염욕 1기 (중온용) - 중온용 염욕 내에서 열산화와 탈탄을 방지하며 열처리를 수행. 중온 및 저온은 사용하는 염의 종류가 다르므로, 중온용과 저온용을 구분하여 장치를 구성함. 염의 높은 비열로 인해 고온으로 1차 열처리된 재료를 빠른 냉각속도로 목표 온도로 유지시켜주는 장치. 4) 저온용 염욕 2기 - 저온용 염욕 내에서 열산화와 탈탄을 방지하며 열처리를 수행. 염의 높은 비열로 인해 고온으로 1차 열처리된 재료를 빠른 냉각속도로 목표 온도로 유지시켜주는 장치. 5）유냉조 및 수냉조 각 1기 - 가스 및 염욕로를 이용한 다단 열처리 이후, 최종적인 소재/부품을 급랭시키는 장치. 6) 배기 시스템 - 염욕 열처리 시 발생하는 분진을 포집하여, 장치 주변의 대기환경을 청정화시키는 장치. 7) 냉각 시스템 - 열처리로의 작동 시 열원체를 냉각 시키고, 열처리 시의 열이 열처리로에 영향을 미치지 않도록 본체를 냉각 |
