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장비 및 시설 기본정보
액상전구체공급장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | (주)레인텍 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2016-12-26 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국생산기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C500 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 본 액상 전구체 공급 장치는 화학 기상 증착 및 원자층 증착법의 저온 공정을 위한 원료 물질로서 사용되는 액상전구체의 열적 안정성을 유지하며 증착 챔버 내로 기화된 전구체의 정량 공급이 가능해야 한다. 또한 Aluminum, Silicon등의 원료로서, 2가지 이상의 액상 전구체를 독립적으로 기화시킬 수 있는 기화기를 포함하며 각 기화기는 최대 200℃ 의 기화 온도에서 최대 5g/min(TMA), 10g/min(DIPAS)이상의 전구체 이송이 가능해야 한다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201701/20170112152155282.jpg |
| 장비위치주소 | 나노·광융합기술센터 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2017-01-235718 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201711170968 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |