| 시설장비 설명 |
X-선 광전자 분광 장비는(X-ray Photoelectron Spectroscopy; XPS)는 단색 X-선의 조사에 의해 여기된 광전자의 에너지 분석으로 표면의 중심준위 전자구조 화학결합상태 등을 정량적으로 측정하는 장비이다. 특히 PHI 5000 VersaProbe XPS 장비는 연구와 개발을 위해 주사형 micro x-ray 선원을 사용할 수 있도록 개발된 다용도 표면 분석 장비이다. 이 장비에는 가전자대 전자구조를 정밀하게 측정하여 금속 반도체 합금 흡수 원자층의 전자 띠구조를 연구할 수 있는 자외선 광전자 분광 장비(Ultra-violet Photoelectron Spectroscopy; UPS)와 깊이방향 성분 정량분석이 가능한 Auger 전자 분광장비(Auger Electron Spectroscopy; AES)가 함께 설치되어 동시에 다양한 분석을 수행 할 수 있다. X-선 발생장치 전자에너지 분석기 UV 발생장치 전자 발생장치 Ar 이온 발생장치 등으로 구성 있다. ※ Specifications (제원) Minimum X-ray Beam Size : ≤10 ㎛ Minimum Energy Resolution : ≤0.50 eV (Ag 3d5/2) aximum Sensitivity : ≥ 1000000 cps above background (Ag 3d5/2) Scanning Electron Gun (AES/SEM) UV Light Source Automated specimen stage (X Y Z R T) ※Applications (응용분야) Identifying elements of surface Chemical state identification Quantitative analysis Multi point analysis Line scan analysis Area scan analysis AES analysis UPS analysis |
