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펄스 일렉트론 장치 및 소프트웨어

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명	ZEUS
장비번호
제작사	Neocera
모델명	Neocera PEBS20 pulsed electron source package
장비사양
취득일자	2003-03-07
취득금액

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명	한국전기연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C500
표준분류명
시설장비 설명	특징 PED (pulsed electron deposition)은 펄스 (100 ns)를 가지는 high power (1000 A, 15 kev)의 electron beam이 target에 침투하여 target를 빠른 속도 로 evaporation 시키고 plasma를 형성하는 공정이다. PED의 장점은 복잡한 composition의 target의 조성 그대로 박막을 증착시킬 수 있으며, 반도체, 절연체를 포함하는 모든 고상의 재료 또는 금속을 PED를 통해 박막화 할 수 있다. 또한 널리 사용되는 PLD (pulsed laser deposition) system에 비해 가 격이 저렴한 장점을 가지고 있다.
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/200712/20071227150917.bmp
장비위치주소	한국전기연구원 제2연구동
NFEC 등록번호	NFEC-2007-12-049868
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0053267
첨부파일