- HOME
- 기술정보
- 장비
장비
장비 및 시설 기본정보
XeF2 에처
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Advanced Communication Devices |
| 모델명 | XeF2 Etch System |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2014-09-01 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 기초과학연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 에칭 메커니즘으로 absorb된 F2 가스의 dissociation은 표면의 원자와 반응하여 functional group을 형성한다. 이러한 방식으로 다양한 물질의 표면 특징을 분석 가능하다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201503/20150325174540198.jpg |
| 장비위치주소 | 울산과학기술대학교 101동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-03-200528 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0054165 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |