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그래핀/h-BN 합성용 PECVD-PVD 클러스터 시스템

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보유기관명	한국과학기술연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C507
표준분류명
시설장비 설명	- Graphene 과 h-BN 을 합성하는 데 필요한 PVD (Sputter, E-Beam Evaporation) 와 PECVD 장비 등 다양한 장비들이 하나의 chamber 로 연결되어 있는 최첨단 장비로 그래핀 관련 세계 선도적 연구 가능 장비임. - PVD 장비의 Catalyst 증착 단계부터 저온 공정이 가능한 PECVD 의 그래핀 및 h-BN 합성 단계까지 쉽고 빠르며 정확한 공정이 가능함. - 고품질의 Graphene 과 h-BN 을 합성하기 위하여 다양한 금속 박막의 적용 연구가 필수적이며, Graphene 과 h-BN 을 이용한 높은 효율의 하이브리드 3차원 소자 제작 등이 가능한 전자 재료 합성 장비임.
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201504/201504218331957.jpg
장비위치주소	한국과학기술연구원 전북분원 연구동
NFEC 등록번호	NFEC-2015-04-201758
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0055757
첨부파일