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장비
장비 및 시설 기본정보
R.F/D.C MAGNETRON SPUTTERING CHAMBER
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 제인텍(주) |
| 모델명 | |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 1993-03-11 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 4 CATHODE 3-GUN TYPE 4 SUBSTRATE(UP-DOWN) 900 도 C HEATING RF-DC 겸용산화물 및 금속박막 형성 진공중 3 층의 다층 박막 형성가능 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/200702/.thumb/200702067511.jpg |
| 장비위치주소 | 서울 성북구 월곡2동 과학기술연구원 39-1번지 한국과학기술연구원 청정연구동(L6) 2층 L6207 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2000-08-039258 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0006288 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |