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장비
장비 및 시설 기본정보
전자빔 증착챔버 제작
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 대기하이텍 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2014-10-16 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국원자력연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C504 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 챔버 내부 표면 상태는 진공도가 5X10^-7 Torr 보다 더 좋은 진공을 내는데 문제가 없다. 본 E-beam 챔버는 ion beam mixing 공정에 적합하도록 이온빔 인수 port를 구비. 다양한 샘플 증착 가능하며 특히 원통형 샘플이 전체적으로 균일하게 증착 할 수 있도록 substrate unit가 설계되어짐 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201411/2014111811857279.jpg |
| 장비위치주소 | 한국원자력연구원 방사선응용연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2014-11-193570 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0046303 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |