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장비 및 시설 기본정보

복합 PACVD 장치

장비 개요

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명 ZEUS
장비번호
제작사 아텍시스템
모델명 모델명 없음
장비사양
취득일자 2006-11-28
취득금액

보유기관 및 이용정보

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명 한국생산기술연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드 C507
표준분류명
시설장비 설명 실용적 D600×H900(capacity), 500Kg(Load) 의 용적으로 가스인입라인(가열) 를 포 함한 진공용기와 각동 진공포트, 밸브, 게이트 밸브, 배기 라인 등으로 구성 되 며, 진공 배기 장치로서 저진공용 R/P, B/P를 구성하고 고진공용 D/P를 구 성하 여 공정시 요구되는 진공도를 만족시킬 수 있는 시스템으로 구성으로 기타 부수적 인 배기 라인을 포함하고, 일정한 진공 및 가스유량을 유지하기 위한 진공 유지계 를 포함한다. 이 장치를 이용하여 유기전구체를 이용한 코팅층의 합성과 플 라즈 마를 이용한 PECVD법을 병행한다.
장비이미지코드 http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201501/20150115143330817.jpg
장비위치주소 한국생산기술연구원 송도TP
NFEC 등록번호 NFEC-2015-01-195855
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0048313
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, 주제어 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
주제어 (키워드)