복합 PACVD 장치
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | 아텍시스템 |
모델명 | 모델명 없음 |
장비사양 | |
취득일자 | 2006-11-28 |
취득금액 |
보유기관명 | 한국생산기술연구원 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | C507 |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | 실용적 D600×H900(capacity), 500Kg(Load) 의 용적으로 가스인입라인(가열) 를 포 함한 진공용기와 각동 진공포트, 밸브, 게이트 밸브, 배기 라인 등으로 구성 되 며, 진공 배기 장치로서 저진공용 R/P, B/P를 구성하고 고진공용 D/P를 구 성하 여 공정시 요구되는 진공도를 만족시킬 수 있는 시스템으로 구성으로 기타 부수적 인 배기 라인을 포함하고, 일정한 진공 및 가스유량을 유지하기 위한 진공 유지계 를 포함한다. 이 장치를 이용하여 유기전구체를 이용한 코팅층의 합성과 플 라즈 마를 이용한 PECVD법을 병행한다. |
장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201501/20150115143330817.jpg |
장비위치주소 | 한국생산기술연구원 송도TP |
NFEC 등록번호 | NFEC-2015-01-195855 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0048313 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |