| 시설장비 설명 |
주사전자현미경은 전자선이 시료면 위를 주사(scanning)할 때 시료에서 발생되는 여러 가지 신호 중 그 발생확률이 가장 많은 이차전자(secondary electron) 또는 반사전자(back scattered electron)를 검출하는 것으로 대상 시료를 관찰한다 전자현미경은 크게 투과전자현미경(Transmission Electron Microscope)과 주사전자현미경(Scanning Electron Microscope)으로 구분할 수 있다. 주사전자현미경에서는 주로 시료 표면의 정보를 얻을 수 있고 시료의 두께 크기 및 준비에 크게 제한을 받지 않는다. 주사전자현미경은 광학현미경에 비해 집점심도가 2배 이상 깊고 또한 광범위하게 집점을 맞출 수 있어 입체적인 상을 얻는 것이 가능하다. 투과전자현미경에서는 고에너지를 갖는 전자선이 전자 렌즈계를 거쳐 시료를 통과하여 형광판에 상을 맺게 한다. 따라서 그 시료는 관찰에 사용될 수 있도록 극히 얇아야 된다. 투과 전자현미경으로는 시료의 밀도 두께 등의 차이에 의한 명암(phase contrast) 상을 얻을 수 있다. 또한 시료에 도달하는 전자선을 회절시켜 회절상을 얻을 수 있으므로 원소내부의 정보도 얻을 수 있다. 투과형 전자현미경의 경우 주사형 전자현미경에 비해 그 구조가 복잡하고 운용이 쉽지 않은 점 가격이 비싼 점 등의 단점을 가지고 있다. 응용에 있어서 투과전자현미경은 금속 세라믹 반도체 고분자 합성체 등의 재료분야 의학 등의 생체시료 조직 관찰에 주로 사용되고 있으며 주사전자현미경은 광학 현미경의 영역에 포함되며 분석장비를 추가하여 분석장비로서의 영역도 확보해 나가고 있다. |
