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장비
장비 및 시설 기본정보
금속나노패턴 형성용 etcher
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Oxford Instruments |
| 모델명 | Plasma Lab100 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2010-11-29 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국기계연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | - 13.56 MHz driven parallel plate reactor - cooled substrate electrodes - shower head gas inlet optimized for RIE - high conductance vacuum layout - PC 2000 Control - manual vacuum loadlock - wide temperature range substrate electrode: -150 150° C - +400 400° C RF driven - Gases: Cl2 SiCl4 BCl3 SF6 Ar O2 H2 and N 2 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201310/20131021175959378.JPG |
| 장비위치주소 | 한국기계연구원 메카트로닉스연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2014-04-187115 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0040514 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |