- HOME
- 기술정보
- 장비
장비
장비 및 시설 기본정보
고순도 정밀 리튬박막증착시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 참트론 |
| 모델명 | (Model:CH-LiEVA100) |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-04-27 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국화학연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C503 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 특징 및 기능 - 본 장비는 녹는점이 180 oC인 리튬금속을 고진공 챔버안에서 열로 기화시켜 리튬 박막을 기판위에 증착하는 시스템임. 리튬금속은 수분에 민감하게 반응하여 쉽게 산화되는 특징이 있으므로 리튬금속증착시스템은 드라이룸안에 별도로 설치하여 사용되어야 함. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201309/20130905114557361.jpg |
| 장비위치주소 | 한국화학연구원 1연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2012-05-163480 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0033096 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |