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장비
장비 및 시설 기본정보
실리콘 박막 태양전지 증착용 다실 화학기상증착시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 에스엔텍 |
| 모델명 | 09SN59 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2010-04-07 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국에너지기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C507 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 입사광에 의해 생성된 전자 정공쌍을 효율적으로 수집하기 위해서 태양전지는 pin구조를 갖게 되는데 광 흡수층으로 사용되는 무첨가 실리콘 박막(intrinsic a-Si:H)과 도우핑 층 (p n) 증착시 도우핑 물질의 상호 오염을 방지하고 단위박막 계면 특성을 향상시키기 위해 클러스터 형태의 다 반응실 장치를 이용한다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201207/20120712124720.JPG |
| 장비위치주소 | 한국에너지기술연구원 자연과학관102동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2012-07-167111 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0034128 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |