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장비
장비 및 시설 기본정보
PLD system 용 연속기판이동장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 마이크로텍 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2005-01-11 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국전기연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C602 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 특징 유연한 금속 기판을 연속적으로 진공을 유지하면서 이동시킨다. 이때 정속 및 정 텐션을 유지하며, PVD 증착 장치와 연계되어 기판이 이동되면서 초전도 물질 및 산화물질을 증착하는데 사용된다. 다양한 증착 소스와의 연계를 위한 공간이 확보되었으며, 고진공과 열적 변형을 방지하기 위해 사각의 SUS 재질 챔버와 이를 보강할 수 있는 구조로 구성되었다. 활용분야 박막 증착 및 열처리 공정 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201509/20150916175049406.jpg |
| 장비위치주소 | 한국전기연구원 초전도실험동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2007-12-049872 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0053268 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |