| 시설장비 설명 |
- 레이저를 이용한 태양전지 패턴 형성 장비소개 -본 장치는 고체, 기체, 반도체, 펨토초 레이저가 태양광발전 제조 장치 전반에 걸쳐 사용되고 있는 장치이며 레이저를 이용한 공정은 기본적으로 Dry process이고 공정 수를 줄이거나 신공정을 개발하기 위해 사용되었다. 이런 Iaser scribe 장치는 적합한 레이저의 종류선택과 양산에 사용될 수 있을 정도의 안정성이 있는 레이저 하드웨어의 결정, 그리고 프로세스에 적합한 결과를 만들어 낼 수 있는 고품질의 광학계 설계가 레이저 장비 제작의 핵심 기술이다.수많은 레이저 종류 중 가공하고자 하는 재료와의 상호작용을 고려하여 가장 가공성이 뛰어난 레이저를 선택하고 이를 고품질의 광학계와 연계하여 프로세스의 요구사항에 적합한 공정을 개발하여야 한다. 본 장치는 532nm 그린 고체 레이저를 사용하여 레이저 출력단을 전류의 세기에 의해 출력을 제어하고 세밀한 제어를 위해 전용드라이버와 컨트롤러를 내장하고 있다. 현재 태양광발전 제조를 위해서는 고출력 레이저가 사용되며 장시간 레이저가 작동되면서 중요광학계의 손상을 유발할 수 있는데 각가의 레이저가 파장이 다르기 때문에 사용되는 광학계에 이용되는렌즈 및 거울등도 각기 파장 및 프로세스에 적합한 재질, 두께 그리고 코팅등으로 만들어져야 광학 부품의 손상을 방지 할 수 있다.광학계의 손상은 직접적으로 최종단의 레이저 빔 품질 저하문제로 직결되며 태양광 제조 라인의 작업중단을 초래할 수 있으므로 최초 설계에서부터 최종 신뢰성 테스트까지 신중을 기하여야 한다. 본 장치를 박막형 태양전지 패턴 형성장비이며 태양전지의 모듈화에 있어 패턴형성은 필수적인 요소이며 태양전지 패널의 상단에 위치한 TCO(Transparent Codctie oide)층의 패턴 형성 및 isolation을 전문적으로 가능하게 한다. 또한 실험실단위에서 단일 Cell 구조가 아닌 직렬연결된 미니 모듈 형상을 구현할 수 있어 태양전지 제조 후 패턴형성으로 인한 광전변환효율 특성의 연구에도 활용될 것이다. |
