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장비
장비 및 시설 기본정보
마스크 얼라이너
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 신코 |
| 모델명 | G203550 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2009-10-28 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 광주과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 특징 리소그라피 공정에 사용되는 마스크와 기판의 패턴을 정렬한 후 노광하여 미세 선폭을 형성하는 데 사용되는 장비임 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201310/20131008111442710.jpg |
| 장비위치주소 | 신소재공학부 신소재공학동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2010-04-078884 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0017494 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |