| 보유기관명 |
한국전자통신연구원 |
| 보유기관코드 |
|
| 활용범위 |
|
| 활용상태 |
|
| 표준코드 |
F202 |
| 표준분류명 |
|
| 시설장비 설명 |
특징 반도체 Fab.공정상의 Film들의 두께측정에 활용되는 장비이며 측정에 사용되는 파장대역은 400~800nm대역으로 텅스텐 Lamp를 광원으로 사용하고 있다. 반도체 공정은 박막형성 및 제거공정을 통하여 전기회로를 작은 크기의 부품으로 만드는 공정으로서 완성된 부품의 전기적인 특성은 박막의 종류 두께 넓이 기타 등등이 중요한 변수로 작용한다. 따라서 반도체 공정에서 박막의 정확한 두께측정이 요구됨. |
| 장비이미지코드 |
http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201109/20110905151402.jpg |
| 장비위치주소 |
한국전자통신연구원 4동 |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2010-06-080042 |
| 예약방법 |
|
| 카타로그 URL |
|
| 메뉴얼 URL |
|
| 원문 URL |
http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0017786 |
| 첨부파일 |
|
