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장비
장비 및 시설 기본정보
점착방지막 형성장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 소로나 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2005-05-12 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한양대학교 ERICA캠퍼스 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C504 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 플라즈마를 이용하여 기판 표면개질 또는 물질 증착Substrate material : Glass Si Plastic Deposition rate : 3 nm/min Deposition uniformity - in wafer : 3% 이하 - wafer to wafer : 3% 이하 RF source power : 300W / 13.56MHz Substrate size : piece 4” 6”표면개질 및 Carbon 계열 증착 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201108/.thumb/20110829141513.jpg |
| 장비위치주소 | 경기 안산시 상록구 사3동 한양대학교 1271번지 한양대학교 안산캠퍼스 제1공학관 2층 212 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2007-07-002032 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0045121 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |